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真空溅射靶材的信息介绍

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真空溅射靶材的信息介绍

发布日期:2016-03-29 00:00 来源:http://www.hnzsfk.com 点击:

真空溅射靶材的信息介绍,帮助大家更好的了解行业的知识。

  技术指标:纯 度:3-4 N 主要成分:ZnO:Al2O3= 97:3 [可根据用户要求调整Al2O3掺杂比 (0-4) wt%] 相对密度:d≥ 98% 理论密度:ρ= 5。6 g•cm-3 实际密度:ρ≥ 5。5 g•cm-3 致密性均一:从横断面看无白点或大颗粒 2。镀膜性能:方块电阻:膜厚900 nm左右时,方阻≤ 10Ω/□ 电 阻 率:ρ≤ 9×10-4 Ω•cm 可见光透过率:T≥ 80% 3。溅射功率密度:目前国内镀膜设备适用功率3-4 w•cm -2,在设备冷却系统好的情况下,最高功率可达10 w•cm -2 4。可生产最大尺寸(mm):最大模具规格:L×W=334 ×272,现有L×W×H=330×135×12,160×135×12,160×135×9三种规格,厚度可根据客户要求生产。


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