新闻资讯

联系我们

地址:北京市昌平区沙河镇西沙屯百葛路301号

电话:13911005996 

传真:010-69731920

邮箱:xu872@bjpram。com

QQ:983851550

网址:www.hnzsfk.com


靶材在真空电镀中的用途

您的当前位置: 首 页 >> 新闻动态 >> 技术中心

靶材在真空电镀中的用途

发布日期:2016-03-29 00:00 来源:http://www.hnzsfk.com 点击:

    靶材的作用很多,而且市场发展空间较大,它在很多领域都有很好的用途。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化, 造成靶与氩气离子间的撞击机率增加,

  提高溅镀速率。一般金属镀膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面,这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜。

  一般来说,利用溅镀制程进行薄膜披覆有几项特点:(1)金属、合金或绝缘物均可做成薄膜材料。(2)再适当的设定条件下可将多元复杂的靶材制作出同一组成的薄膜。(3)利用放电气氛中加入氧或其它的活性气体,可以制作靶材物质与气体分子的混合物或化合物。(4)靶材输入电流及溅射时间可以控制,容易得到高精度的膜厚。(5)较其它制程利于生产大面积的均一薄膜。(6)溅射粒子几不受重力影响,靶材与基板位置可自由安排。


相关标签:合金靶材

最近浏览:

在线客服
分享
欢迎给我们留言
请在此输入留言内容,我们会尽快与您联系。
姓名
联系人
电话
座机/手机号码
优优彩票 盛通彩票注册 盛通彩票app 乐盈彩票平台 荣鼎国际登陆 优优彩票注册 乐盈彩票 荣鼎国际登陆 盛通彩票官网 荣鼎国际平台